Erste funktionsfähige SRAM-Prototypen vorgestellt

Prozessoren & Overclocking: Ab 2007 fertigt Intel Chips in 45-Nanometer-Architektur

Der 65-Nanometer-Fertigungsprozess ist kaum den Kinderschuhen entwachsen, da präsentiert Intel bereits stolz den Nachfolger - Chips auf 45-Nanometer-Basis. Dabei handelt es sich zunächst zwar nur um 153-MBit-SRAM-Chips (Static Random Access Memory), eine entsprechende neue Prozessorgeneration soll aber bereits im kommenden Jahr folgen.

300-mm-Wafer mit 45-nm-Chips

Kleiner, schneller, besser

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Der Vorteil der 45-Nanometer-Herstellungstechnologie gegenüber aktuellen Prozesstechniken besteht vor allem darin, dass sich Chips geringerer Größe oder mit höherer Transistorzahl anfertigen lassen. Möglich macht das eine deutlich gesteigerte Transistorendichte aufgrund der feineren Strukturbreite. Des Weiteren sollen entsprechende Chips eine fünffach geringere Verlustleistung aufweisen und somit Strom sparender arbeiten. Dies optimiere die Batterielebensdauer mobiler Geräte und schaffe die Voraussetzung dafür, kleinere und leistungsstärkere Plattformen zu entwickeln, so Intel.

Bis die neue Fertigungstechnik jedoch bis zur Marktreife entwickelt ist, will Intel vorerst den 65-Nanometer-Prozess weiter vorantreiben. Dazu sollen dieses Jahr zwei weitere Fertigungsanlagen in Irland und Oregon in Betrieb genommen werden; derzeit werden 65-Nanometer-Chips in zwei Fabriken in Arizona und Oregon produziert. Ebenfalls in Oregon, in der D1D-Fabrik, befindet sich auch der Standort der neuen 45-Nanometer-Fertigung, die später auf die Fab 32 in Arizona sowie die Fab 28 in Israel ausgeweitet werden soll.

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